服务电话：
新闻中心
您当前的位置：首页 > 新闻中心
-
28
2025-11
星期 五
-
第三代半导体立式炉CVD 赛瑞达智能电子装备供应
为顺应半导体工艺的发展需求，立式炉在温度控制技术方面持续革新。如今，先进的立式炉配备高精度PID智能控温系统，结合多点温度传感器进行实时监测与反馈调节，能够将控温精度稳定控制在±0.1°C以内。在硅单晶生长过程中，如此精确的温度控
-
28
2025-11
星期 五
-
衢州6英寸立式炉 赛瑞达智能电子装备供应
立式炉通常采用竖直放置的炉体结构，主要部分是垂直放置的炉膛管道，由耐高温材料制成。这种设计使得立式炉能够充分利用空间，减小设备的占地面积，同时更便于自动化设备的操作和维修。立式炉应用于高温处理和热处理领域，如陶瓷烧结、金属热处理
-
28
2025-11
星期 五
-
黄山立式炉LTO工艺 赛瑞达智能电子装备供应
在石油炼化领域，立式炉是不可或缺的关键设备。原油的加热、蒸馏、裂化等工艺过程都离不开立式炉的参与。例如，在常减压蒸馏装置中，立式炉将原油加热至特定温度，使其在蒸馏塔内实现不同组分的分离。其强大的加热能力和精确的温度控制，能够满足原
-
28
2025-11
星期 五
-
黄山智能立式炉 赛瑞达智能电子装备供应
随着新能源产业的快速发展，立式炉在新能源材料制备领域发挥着重要作用。在锂电池材料的生产过程中，立式炉用于对正极材料、负极材料进行烧结处理，通过精确控制温度和气氛，使材料的晶体结构和性能达到理想状态，提高电池的能量密度和循环寿命。在
-
28
2025-11
星期 五
-
上海立式炉PSG/BPSG工艺 赛瑞达智能电子装备供应
氧化工艺是立式炉在半导体领域的重要应用方向。在800-1200°C的高温环境下，硅晶圆被安置于立式炉内，在含氧气氛中，晶圆表面会逐步生长出二氧化硅（SiO₂）层。这一氧化层在半导体器件里用途范围广，比如作为栅极氧化层，这可是晶体管
推荐资讯